近场光刻技术对作者的要求很高，因为需要12高度调整和控制。 这就要求对作者进行严格培训。

培训的成本，最终也会加到芯片的成本上。

而且一旦出意外，作员出了问题，想临时调其他作员过来根本不可能，因为要求太高了。 对此。

万兴刚想出改进的办法。

使用接触式近场光刻技术弥补短板。

直到万兴邦穿越之前，繁华年代的光刻机，使用的就是接触式近场光刻技术。 是他知道的。

最先进的光刻技术。

刚下线的第二代光刻机，无论透镜技术，还是光刻技术，都超越了时代，达到繁华年代的标准。

接触式近场光刻技术，就是近场光刻技术的改良型。

借助接触探针，或者探针阵列，与光刻胶直接接触，把复杂的图案转移到光刻胶上。

零距离接触，排除其他扰，能实现更高的分辨率，更快的转移速度，以及更高的可靠。 稳定。

尤其是用于高度和通量高的应用。

远远超过第一代光科技的分辨率限制，在分辨率方面实现了质的飞跃。

在纳米制造、生物学和光学等领域，都有着非常广泛的应用前景，也是多个领域发展的前提。 要是没有高度芯片，很多领域是发展不起来的。

“接触式近场光刻技术，相比传统的近场光刻技术，最少能提升百分之三十到四十的加工速度。” “节约时间成本，同时能提高度，提高成品率。”

“第二代光刻机技术，就算一直用到本世纪末，也不会落后，其他国家也根本没机会赶上来。” 万兴邦有这个自信。

因为他拿出来的技术， 一方面来自记忆， 一方面来自系统，两者融合，超越这个时代。

“只要给我一点时间，有了第二代光刻机，无论是奔腾D 处理器，还是酷与双核处理器，我都能弄出来。” 万兴邦回忆起前世的科技。

他可不是盲目自信。

这两种处理器，原来的历史轨迹中，都是两千年之后才出现的， 一个是零五年， 一个是零六年。 这两种处理器的出现，都依赖于光刻机。

刚下线的第二代光刻机，达到了能生产两种处理器的水准，某些方面，甚至远远超过这个水准。 比如光刻胶。