叮铃铃~
陈启明的手机响起,他看了眼时间。发布页LtXsfB点¢○㎡
“……怎么就到晚饭点了?我到底在实验室逛了多久思考了多久?”
“喂,妈,怎么了?”
“小明你去哪了,还没放学吗?饭快做好了赶快回来吃饭!”电话那
的母亲带着一丝嗔怪的语气。
陈启明心里咯噔一下,但脸上依旧平静,脑子飞速运转,一个完美的借
瞬间成型。
“哦,在图书馆学习呢,我马上回来!”
“行,那你快点啊,菜要凉了。”
挂断电话,陈启明最后扫了一眼这片闪烁着未来科技光芒的地下帝国,与楼上那个即将飘来饭菜香的
间世界形成了鲜明对比。他关掉所有屏幕,快步走上阶梯。随着他的离开,身后的
无声无息地恢复成那片平平无奇的水泥地面,仿佛一切都未曾发生。
趁着父母不注意,偷偷从地下室溜了出来,又偷偷到门
假装开门回来,动作娴熟,丝毫没有被发现!
晚饭过后,“爸,妈,我出去
一件大事,而且是好几天,没有重大事
不要来找我。”
“你去
什么大事?!快要九省联考了还出去鬼混!”
“你这臭小子一个高中生还能
什么大事?好好学习准备考试才是正事!”
“这真是大事!你们不要打扰我,手机最好也别打了。”
趁父母吃饭的不注意,陈启明又偷偷溜
地下室,回自己的专属实验室继续1nm光刻机的研发制造。
地下室的
无声关闭,隔绝了
间烟火。陈启明站在阶梯的尽
,整个地下科技帝国的光芒仿佛都在迎接他的回归。
这一次,他的眼中没有了初见时的震撼,取而代之的是一种创造者即将挥毫泼墨的专注与炽热。他没有片刻停留,径直走向了相关实验室。
首先是第一步,光学系统——机器的灵魂!
来到超
密光学中心的实验室,在这里,空气中连一粒尘埃都看不到,洁净度超越了
类现有一切标准的Class 1级别。在这里,哪怕是一粒纳米级的尘埃落在镜片上,都可能导致整套光学系统的报废。
陈启明没有去看那些现成的、代表着当前地球最高水平的设备,而是直接走向实验室的“材料合成与生长区”。
制造1nm光刻机的光学系统,第一步,也是最基础的一步,就是制造出承载一切的镜片基底——镜坯。在前世,这是德国肖特公司耗费数十年攻关才掌握的顶级绝活,其制造出的零热膨胀系数石英玻璃,是蔡司镜片的基础。发布页Ltxsdz…℃〇M
但陈启明要做的,比那更好。
目标:合成零热膨胀系数的‘复合碳化硅-石英’晶体,尺寸,直径550mm。
随着他按照学习和说明,一点一点的
作和指令,一台巨大的圆柱形设备发出低沉的嗡鸣。内部瞬间被抽成绝对真空,温度和压力参数在屏幕上以毫秒级的频率进行着
确调整。陈启明没有使用现成的石英砂,而是直接在【万物采购】中订购了最纯粹的碳和硅。
这些基础元素在设备中被气化,然后在一块小小的籽晶上,以一种超越蓝星理解的“诱导外延生长”方式,一个原子层一个原子层地完美堆叠。
屏幕上,晶体的生长过程被实时模拟出来,其内部晶格结构完美无瑕,没有任何杂质和缺陷。整个过程,快得不可思议。外界需要数周乃至数月才能缓慢生长出来的巨大晶体,在这里,仅仅花费了几个小时。
当设备门打开,一块通体黝黑、却散发着奇异光泽的巨大圆形镜坯,被机械臂稳稳地托了出来。它的物理
能,在耐用
、刚
和热稳定
上,全面超越了德国肖特公司的王牌产品。
“第一步,完成。”陈启明面无表
,仿佛只是完成了一次高中化学实验。
紧接着,镜坯被送
了隔壁的“超
密加工区”。
迎接它的是一台系统特供的“磁流变与离子束复合抛光机”。这是光刻机制造中,神话色彩最浓重的一步——镜面打磨。
在前世,为了将镜片表面打磨到皮米级
度,蔡司的工程师需要耗费数年时间,用最
密的仪器进行无数次的测量和修正。
但在这里,陈启…明只是将自己设计的、包含复杂非球面参数的八块变形镜(Anamorphic Mirrors)图纸导
系统。
“开始加工。”
巨大的机械臂夹着镜坯,以一种奇异的韵律在高速旋转的磁流变
体中移动。无数细小的磁
颗粒在磁场控制下,如同一支无形的、拥有亿万根刷毛的刷子,对镜面进行着亚纳米级的“粗加工”。
几小时后,粗加工完成。紧接着,一道幽蓝色的高能离子束被激发,如同最锋利的手术刀,开始对镜面进行最后的“雕琢”。离子束每扫过一次,就在镜面上剥离掉几个原子层,其
度之高,已经超出了当前
类物理学的测量极限。
又是几个小时过去。
【所有镜片加工完毕,表面粗糙度:0.05皮米。曲面
廓误差:低于0.01皮米。】
看到这个数据,就算是心如止水的陈启明,也不禁
吸一
气。0.01皮米!这是什么概念?相当于在整个太平洋海面上,最高的
花和最低的波谷之间,高度差不超过一根
发丝的百万分之一!
这已经不是工业,而是神迹!
接下来是第三步,也是决定EUV光刻机成败的关键——多层膜(Multilayer)的镀制。
由于没有任何材料能有效折
13.5纳米波长的EUV光,所以EUV光刻机必须使用反
镜。为了最大限度地反
EUV光,镜片表面必须镀上四十到五十层“钼(Mo)”和“硅(Si)”
替组成的薄膜,每一层的厚度都必须
确控制在几纳米。
在前世,这是全球仅有少数几家公司掌握的核心机密,其反
率的理论极限被公认为70%。
陈启明将八块完美无瑕的镜片送
“原子层沉积(ALD)”设备中。但他并没有直接开始镀膜。
“在Mo/Si多层膜之间,
厚度为0.1纳米的‘钌-石英’复合界面层,以消除界面应力,提升反
率。”
这又是他基于更高维知识进行的魔改!外界科学家还在为如何减少薄膜之间的应力而苦恼时,他已经找到了完美的解决方案。
随着设备运行,不同元素的原子蒸汽被
替注
真空腔体,一层又一层地“刷”在镜片表面。
当镀膜完成,系统给出了最终的检测报告。
【反
率:71.8%。】
超越理论极限!
至此,整套High-NA EUV光学系统的核心部件,这套凝聚了光学、材料学和
密制造巅峰的“神之眼”,在不到十个小时的时间里,被陈启明一个
,从最基础的原材料开始,一手打造完成!
这在地球上是不可想象的。任何一个国家想要复刻这个过程,都需要投
数十年时间和数千亿美元,组织成千上万的顶尖科学家和工程师协同攻关,而且成功率极低。
而这,仅仅是陈启明的第一步。
他马不停蹄地来到下一个实验室,开始制造光刻机的“躯
”——双工件台系统。
这是机械工程的极限。为了效率,它要求一个工件